光學膜厚儀是一種非接觸式測量儀器，一般會運用在生產廠商大量生產產品的過程，由于誤差經常會導致產品全部報廢，這時候就需要運用光學膜厚儀來介入到生產環境，避免這種情況的發生。
典型應用領域：
半導體制造業，光刻膠、氧化物、硅或其他半導體膜層的厚度測量；
生物醫學原件：聚合物/聚對二甲苯；生物膜/球囊壁厚度；植入藥物涂層；
微電子：光刻膠；硅膜；氮化鋁/氧化鋅薄膜濾鏡；
液晶顯示器：盒厚；聚酰亞胺；導電透明膜。
儀器的使用優點：
1、測量數據多樣：可以測得物體的膜厚度和n，k數據，這是其它類型的膜厚儀所不具備的特點；
2、測量快速：光學膜厚儀的測量過程非常快速，因為該設備采用了先進的結構設計，能夠極大程度的提升測量效率，相比于其他類型膜厚測量設備來說顯得非常輕巧方便；
3、非接觸式測量：光學膜厚儀采用的原理是通過光的反射原理對膜層厚度進行測量，屬于非接觸式測量方法，不會對樣品造成任何損傷，能夠保證樣品的完整性；
4、適用范圍廣：光學膜厚儀的適用范圍非常廣泛，從普通家用到工廠的工業生產，再到大學實驗室和科學研究所，都可以看到它的身影，由此可見它的使用范圍極其廣泛，能夠作業的場合也變得更加多樣化。
光學膜厚儀的使用注意事項：
1、零點校準：在每次使用膜厚儀之前需要進行光學校準，因為之前的測量參數會影響該次對物體的測量，零點校準可以消除前次測量有參數的影響，能夠降低測量的結果的誤差，使測量結果更加精確。
2、基體厚度不宜過薄：在使用光學膜厚儀對物體進行測量時基體不宜過薄，否則會極大程度的影響儀器的測量精度，造成數據結果不準確，影響測量過程的正常進行。
3、物體表面粗糙程度：對于被測物體的表面不宜太過粗糙，因為粗糙的表面容易引起光的衍射，降低了光學膜厚儀的測量精度，造成很大的誤差。所以被測物體的表面應該盡量保持光滑，以保證測量結果的精確性。
